国家/地区 韩国（2） 世界知识产权组织（2）
IPC部 B（2）
IPC大类 C01（2） C23（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/02（2）
发明人 KIM T（2）
公开年
申请年 2013（2）
专利权人

Manufacture of graphene involves loading catalytic metal layer into chamber, applying tensile force to catalytic metal layer, supplying carbon source to chamber, applying tension, and forming graphene on catalytic metal layer.

MOON J, RHO J, PARK S, KIM T, HONG B, PARK W, JUNG M, KIM T H, ROH J

Manufacture of graphene for top-gate FETs, involves forming graphene layer on base substrate, attaching target substrate onto layer, and separating graphene layer from base substrate to transfer graphene layer onto target substrate.

CHO B, KIM T, SHIN W, YOON T, BYUNG J C, TAE S Y, TAEK S K, WOO C S