国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/04（2）
发明人 WU C（2）
公开年 2012（2）
申请年 2010（2）
专利权人 NAT CENT NAN.（2） NAT CENT NAN.（2）

Forming graphene oxide pattern, comprises e.g. preparing substrate, forming self-assembling monomolecular film on substrate, covering film using mask to expose, and removing mask to obtain self-assembling monomolecular film template.

CHENG Q, HAN B, SUN S, WU C

Forming graphene oxide pattern, comprises e.g. preparing substrate, preparing hydrophobic self-assembly monomolecular film on surface of substrate, and exposing the film by mask to ultraviolet lamp, and removing mask after exposure.

CHENG Q, ZHOU D, WU C, SUN S, HAN B