国家/地区 韩国(27) 美国(23) 世界知识产权组织(14) 中国(12) 日本(11) 欧洲专利局(EPO)(7) 俄罗斯(7) 台湾(5) 德国(2)
IPC部 B(43)
IPC大类 B82(43) C01(43) H01(14)
C23(9) B32(8) B01(6)
B29(2) B41(2) B44(2)
C04(2) C09(2) D01(2)
G01(2)
IPC小类 B82B(43)
IPC B82B003/00(43)
发明人 CHO S(2) CHO S H(2) FAN F Y(2)
FAN S(2) FEI L(2) FENG X(2)
JEONG H M(2) JIANG K(2) JIN K H(2)
KALANDARISHVILI A G(2) KONONENKO O V(2) LEVASHOV V I(2)
LIN X(2) LIN X Y(2) MATVEEV V N(2)
公开年 2013(20) 2012(16) 2011(7)
申请年 2011(43)
专利权人 HANWHA TECHW.(3) KOREA ADV IN.(3) SAMSUNG TECH.(3) UNIV SUNGKYU.(3)
UNIV SUNGKYU.(3) AS RUSSIA MI.(2) HON HAI PREC.(2) HONGFUJIN PR.(2)
KOREA ADVANC.(2) KOREA BASIC .(2) KOREA INST S.(2) MAX PLANCK G.(2)
UNIV SUNGKYU.(2) UNIV TSINGHU.(2) UNIV ULSAN F.(2)