国家/地区 日本（3） 美国（3） 世界知识产权组织（3） 中国（2） 欧洲专利局（EPO）（2） 韩国（2）
IPC部 C（3）
IPC大类 C01（3） B82（2） H01（2）
IPC小类 C01B（3）
IPC C01B031/02（3）
发明人
公开年 2013（3）
申请年 2012（2） 
专利权人

Manufacture of modified graphene-like carbon material used for resin compound material, involves reacting graphene-like carbon material and hydrogen peroxide and introducing hydroxyl group into graphene-like carbon material.

WADA T, TSUBOKAWA N, TAKUYA W

Carbonaceous material used for e.g. electrode catalyst, comprises graphene doped with metal atom and at least one type of nonmetallic atom chosen from nitrogen atom, boron atom, sulfur atom, and phosphorus atom.

NAKANISHI S, KAMAI R, SUZUKI Y, HASHIMOTO K, KAMIYA K

Preparing a semiconductor substrate, useful for forming a multilayer article, comprises forming a metal film on the substrate, contacting metal film surface with a carbon-containing gas and precipitating carbon atoms to form graphene layer.

SEACRIST M R, BERRY V