国家/地区 |
中国(4)![]() |
IPC部 |
A(4)![]() |
IPC大类 |
C01(4)![]() |
IPC小类 |
C01B(4)![]() |
IPC |
C01B032/186(4)![]() |
发明人 |
CHOI K(2)
HEIGHT M(2)
PARK H(2)
PARK H G(2) |
公开年 | 2017(2) |
申请年 | 2016(2) |
专利权人 | HEIQ MATERIA.(2) |
CHOI K, PARK H G, HEIGHT M, CHOI K J, PARK H, PIAO H
DUAN X, MENG X, LIU Z, LIU K
PARK H G, HEIGHT M, CHOI K, PARK H
ZARETSKI A, LIPOMI D J, SAVTCHENKO A, MOLOKANOVA E, MERCOLA M