国家/地区 美国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2） C23（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C23C016/04（2）
发明人
公开年 2021（2）
申请年 2021（2）
专利权人

Reactor assembly comprises gas inlet, gas outlets, reactor chamber, porous frits having porosity and comprising nanoporous carbon material, reactor head space, reactor assembly lamps, and computer processing unit.

NAGEL C J, BRODEUR C L

Forming layer, comprises e.g. exposing substrate to aromatic precursor in processing chamber, rinsing aromatic precursor from processing chamber, and heating substrate deposit graphene hard mask layer on substrate.

BHUYAN B J, LEONCINI A