国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C23C016/26（2）
发明人 ZHANG Z（2）
公开年
申请年
专利权人

Method of making a pellicle for use in extreme ultraviolet (EUV) lithography system, by depositing graphene layer over first material layer, and depositing amorphous silicon layer over graphene layer.

TU C, CHEN C, YOO C S, CHANG J, TSAI C, LIU P, LEE H, LIN C, LIN Y, TU Z, CHEN J, CAI J, YOU Q, ZHANG Z, LIN Z, LIU B, LI X, YOO C

Method for forming e.g. multi-layered graphene layer deposited on glass substrate, involves utilizing microwave with electron cyclotron resonance mechanism to excite carbon-containing gas to deposit graphene layer on substrate.

HUANG K, CHANG C, HSIEH Y, CHIU P, MEDINA H, QIU B, XIE Y, ZHANG Z, MEDIONA H, HUANG K P, CHANG C C, HSIEH Y T, CHIU P W