国家/地区 美国（2244）
IPC部 C（2244）
IPC大类 C01（2244） H01（1121） B82（859）
B01（453） C23（407） B32（330）
C09（299） C08（286） B05（170）
C25（138） C07（130） G01（116）
C30（111） H05（105） D01（85）
IPC小类 C01B（2244）
IPC C01B031/04（1111） C01B031/02（679） B82Y040/00（660）
B82Y030/00（644） C01B032/194（399） C01B032/182（396）
C01B032/184（306） C23C016/26（260） H01B001/04（228）
C01B032/198（214） C01B032/186（202） H01M004/62（189）
H01M004/36（174） H01L029/16（173） C01B031/00（171）
发明人 JANG B Z（114） ZHAMU A（103） LEE J（54）
SHIN H（51） CHOI J（48） SHIN H J（45）
LEE S（41） KIM H（32） CHOI J Y（31）
WANG Y（30） KIM S（29） LIN Y（29）
FAN S（28） LEE C（26） YOON S（26）
公开年 2021（274） 2015（254） 2014（232） 2013（219） 2017（217） 2016（195） 2012（177） 2022（144） 2018（114） 2011（107） 2020（84） 2023（61） 2010（53） 2019（46） 2009（35） 2008（10） 2002（5） 2006（4） 2007（4） 2003（3）
申请年 2015（237）  2013（235）  2014（226）  2012（218）  2021（200）  2016（186）  2020（165）  2011（156）  2017（137）  2022（106）  2010（95）  2019（88）  2018（78）  2009（57）  2008（22）  2007（14）  2002（9）  2006（5）  2005（4）  2004（3） 
专利权人 SAMSUNG ELEC.（111） NANOTEK INST.（99） JANG B Z（56） ZHAMU A（53）
UNIV SUNGKYU.（47） KOREA INST S.（39） SEMICONDUCTO.（36） UNIV CALIFOR.（35）
EMPIRE TECHN.（32） HON HAI PREC.（32） UNIV TSINGHU.（32） TOSHIBA KK（31）
HONGFUJIN PR.（30） INT BUSINESS.（27） UNIV RICE WI.（27） UNIV SUNGKYU.（25）
HANWHA TECHW.（24） SAMSUNG TECH.（24） UNIV SEOUL N.（24） GLOBAL GRAPH.（21）

System for realizing formation of high throughput and high yield graphene for use in applications such as batteries, ultra-capacitors and fuel-cells, has gas distribution subsystem for dispensing annealing gas composition to inner side of processing sub-enclosure.

PHILPOTT R, BARAKET M, SHERRILL V

System for forming graphene used in different types of commercial applications, e.g. batteries, comprises substrate holder designed for holding substrate sheet, outfeed tunnels provided adjacent to substrate holder, multiple processing sub-enclosures provided adjacent to outfeed tunnels.

SHERRILL V, BARAKET M, PHILPOTT R

Pellicle for use in lithography mask assembly for extreme ultraviolet lithography process in semiconductor manufacturing industry to optically transfer patterns onto a substrate, comprises membrane that includes silicon carbide nanostructures with silicon carbide nanotubes.

ONEILL J, HART A H C

Hard mask film used in etching process for manufacturing semiconductor device, comprises first graphene layer, first amorphous carbon layer on first graphene layer, second graphene layer on first amorphous carbon layer, and second amorphous carbon layer on second graphene layer.

KIM Y, OH S, AN S, AHN S J, OH S R, KIM Y U, AN X

Battery-powered analyte sensing system used in Three-dimensional (3D) printing techniques, comprises printed battery comprising anode, comprises non-toxic biocompatible metal, first carbon-based current collector in electrical contact with anode and 3D hierarchical mesoporous carbon-based cathode.

CHMIOLA J, SINGH S, LIM S H, COOK D, MONTALVO C, STOWELL M W, LANNING B

Producing and depositing graphene film on anode involves creating graphite dispersion, electrostatically charging graphene dispersion by addition of organic amine salt, and applying conductive graphene film to anode by electrophoretic deposition.

WEIJIA L, GONG S

Preparing carbon nanomaterial product for medical device, structural enhancement additive, strength enhancement additive, electrical conductivity enhancement additive, involves heating electrolyte media to obtain molten electrolyte media.

LICHT G, LICHT S

Preparing carbon nanomaterial product for medical device, structural enhancement additive, and strength enhancement additive, involves heating electrolyte media to obtain molten electrolyte media, positioning molten electrolyte media between high-nickel content anode and cathode of electrolytic cell.

LICHT G, LICHT S

Producing macro-assembly product for nano-filtration, involves heating electrolyte media to obtain molten electrolyte media, positioning molten electrolyte media between anode and cathode of electrolytic cell, introducing source of carbon into electrolytic cell.

LICHT G, LICHT S

Lithiation-induced porous palladium/nitrogen-doped graphene aerogel composite for highly reversible hydrogen storage, comprises nitrogen-doped porous carbonaceous structure and porous metal nanoparticle having pores.

KIM D W, CHOI J H, PARK M G, KANG J K, PARK M K