国家/地区 中国（2） 台湾（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/04（2）
发明人 LIN Y（2）
公开年
申请年 2012（2）
专利权人 LAIZUAN CO L.（2） RITEDIA CORP（2）

Magnetic memory unit manufacturing method, involves forming carbon solvent layer with upper surface that is provided with temporary base material, and forming first surface of graphene-containing layer with holes.

LIN H, LIN Y, SONG J, SUNG C, LIN I

Fabricating patterned graphene, comprises forming catalytic layer on substrate and carbon layer of e.g. iron on catalytic layer, photolithographically etching on carbon layer and heating obtained layer to form patterned graphene layer.

SUNG C, LIN I, LIN H, LIN Y, SONG J