国家/地区 韩国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B021/064（2）
发明人 KIM C（2）
公开年
申请年
专利权人

Pellicle film used for extreme UV lithography, comprises boron nitride nanostructure layer.

CHOI J H, CHO S J, YU L, KIM C, LEE S Y, SEO K W, KIM K S, MOON S Y, KIMCHUNG, SEO K

Conductive structure, comprises conductive material layer including metal and work function control layer including two-dimensional material with defect, to control work function of conductive structure.

LEE C, KIM C, LEE E, BYUN K, KIM S, SHIN H, SHIN H J, BYUN K E, LEE C S, LI C, JIN C, LI Y, JIN S, SHEN X