国家/地区 韩国（2） 美国（2） 世界知识产权组织（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/02（2）
发明人
公开年 2013（2）
申请年
专利权人

Manufacture of modified graphene-like carbon material used for resin compound material, involves reacting graphene-like carbon material and hydrogen peroxide and introducing hydroxyl group into graphene-like carbon material.

WADA T, TSUBOKAWA N, TAKUYA W

Manufacture of graphene oxide reduced material for forming electrode for silicon-based semiconductor, involves synthesizing graphite oxide flakes from graphite flakes and forming graphene oxide dispersion solution.

JEONG S, LEE G, HAN J, JEONG H, KIM S, HAN J T, JEONG H J, JEONG S Y, KIM S H, LEE G W