国家/地区 | 美国(5) 韩国(4) |
IPC部 |
C(6)![]() |
IPC大类 |
C09(6)![]() |
IPC小类 |
C09D(6)![]() |
IPC |
C09D001/00(3)
C08K003/04(2)
C09D005/24(2)
C09D005/44(2) C09D007/61(2) D01D005/00(2) D01D005/06(2) D01F009/12(2) H01G011/36(2) H01G011/40(2) H01G011/86(2) H01M004/04(2) H01M004/583(2) |
发明人 |
PARK S(6)![]() |
公开年 | 2020(2) |
申请年 | 2019(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
SHIN H K, SEO D K, SIM J H, CHO W J, KANG B H, MOON S J, PARK S C, SEO H W, CHO J E, SHIN K S, SHIN H, SUH D, SHIM J H, KANGBYOUNGHUN, WON S H, EUN J J, SOON S, SHEN X, XU D, SHEN J, CAO Y, JIANG B, WEN S, PARK S, SEO H, CHO J, SHIN G
JOO Y L, CHANG C, ZAMANI S, JUNG W, KANG T, PARK S, JOOYONGLAK, SOMAYEH Z, SIK C, KANGTAECHOONG
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K