国家/地区 日本（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2） C25（2） H01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/02（2） H01M004/13（2） H01M004/139（2）
发明人
公开年 2013（2）
申请年 2012（2）
专利权人 SEMICONDUCTO.（2）

Flexible substrate processing apparatus used for reducing graphene oxide to form graphene comprises substrate carrying-out portion; reduction treatment portion; washing portion; drying portion; and substrate carrying-in portion.

TAKAHASHI M, SAITO Y, MOMO J, MORIWAKA T, KUSUMOTO N, MORIWAKA K, YONEDA Y

Manufacturing method for graphene-coated object, involves heating graphene oxide deposited on uneven surface of object in vacuum or reducing atmosphere to reduce graphene oxide to graphene, after immersing object in graphene oxide solution.

OGUNI T, OSADA T, TAKEUCHI T, KOKUNI T, NAGATA T