国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C23（2）
IPC小类 C23C（2）
IPC C23C016/26（2）
发明人 YANG C（2）
公开年
申请年
专利权人

Prevention of deposition of reactants and by-products in metal-organic chemical vapor deposition reaction chamber by electrochemically polishing component part, depositing catalytic reaction layer, protecting and depositing graphene layer.

FANG C, JIN K, LIU X, WANG L, YANG C, ZHANG L, ZHANG Y

Preparation of graphene crystal domain involves forming copper-nickel double sided substrate, introducing hydrogen, reacting, introducing carbon source, growing graphene crystal domain, introducing argon gas and cooling.

YANG C, WU T, LU G, ZHANG X