国家/地区 | 美国(4) 中国(2) 世界知识产权组织(2) |
IPC部 |
C(5)![]() |
IPC大类 |
D01(5)![]() |
IPC小类 |
D01D(5)![]() |
IPC |
D01D005/06(5)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y(2)
KIM H(2)
PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2) |
公开年 | |
申请年 | 2019(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
CHEN S, ZHU M, ZHOU Z, MA W
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S