国家/地区 |
世界知识产权组织(4)![]() |
IPC部 |
D(4)![]() |
IPC大类 |
D01(4)
D02(3)
D06(3)
H01(2) |
IPC小类 |
D01D(4)![]() |
IPC |
D01F001/09(4)![]() |
发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
公开年 | 2017(2) 2018(2) |
申请年 |
2017(4)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R