国家/地区 世界知识产权组织(4)
IPC部 D(4)
IPC大类 D01(4) D02(3) D06(3)
H01(2)
IPC小类 D01D(4)
IPC D01F001/09(4)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2)
公开年 2017(2) 2018(2)
申请年 2017(4)
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)