国家/地区 |
世界知识产权组织(5)![]() |
IPC部 |
D(5)![]() |
IPC大类 |
D01(5)
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IPC |
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发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
公开年 |
2017(5)![]() |
申请年 |
2017(5)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H