国家/地区 韩国（3）
IPC部 B（2） C（2） H（2）
IPC大类 C01（2） H05（2）
IPC小类 C01B（2） H05H（2）
IPC C01B031/02（2）
发明人 KIM S（3） BYUNG G S（2） BYUNG H K（2）
KYU H L（2） MOON W L（2） MYOUNG S S（2）
SUN Y C（2） YONG D K（2）
公开年 2013（3）
申请年 2012（3）
专利权人 CHEORWON PLASMA RES INST（3）

Graphene-nanoparticle composite used for laminate for electrochemical device, comprises crystallized nanoparticles including nickel, silicon, titanium, chromium, manganese, iron, cobalt, silver and/or magnesium, on surface of graphene.

KIM S, CHOI S Y, SHIN M S, LEE K H, SON B G, RYU S H

Plasma process apparatus used to process e.g. graphene used in the fabrication of transistor, comprises reactor comprising electrode portions to feed constant high voltage for plasma discharge reaction generated in processing channel.

KIM S, YONG D K, BYUNG G S, SUN Y C, MYOUNG S S, BYUNG H K, KYU H L, MOON W L

Plasma processing apparatus used for changing property of material e.g. graphene, has electrode portions that are arranged to supply high voltage of constant cycle such that plasma discharge reaction is generated in processing channel.

KIM S, YONG D K, BYUNG G S, SUN Y C, MYOUNG S S, BYUNG H K, KYU H L, MOON W L