| 国家/地区 | 韩国(10) 美国(9) 世界知识产权组织(4) 中国(2) |
| IPC部 |
H(6)
C(4)
B(3)
|
| IPC大类 |
H01(5)
B01(3)
C01(2)
C08(2) H10(2) |
| IPC小类 |
B01J(3)
C01B(2)
H01L(2)
H01M(2) |
| IPC | B01J021/18(2) B01J037/06(2) |
| 发明人 |
CHOI W(3)
KIM J(3)
CHOIWEONYONG(2)
LEE S(2) |
| 公开年 | 2023(5) 2021(3) 2022(2) |
| 申请年 | 2021(4) 2022(4) 2020(2) |
| 专利权人 |
POSTECH RES BUSINESS DEV FOUND(10)
|
CHOI W, HWANG H, LEE K, KWON J, LEE H, LEE J, NOH S, NOH S J, YI J S, KWON J H, LEE G M, HWANGHYUNSANG
PARK K, KANG S, JUNG S, PARK J, JO J, KIM J, SONG W, KANG S H, HYOUNG C J
CHO K, MOON W, LEE S, KIM J, CHO K W, MOON W K, KIM J S
NOHYONGYOUNG, KIM H J, KIM H, NOH Y Y, LU R
PARK S J, SONG G J, BANG Y M, PARK S, SONG K, BANG Y
CHOI W, JEON T H, CHOIWEONYONG, TAEHWA J
LEE S, CHOI W, CHOIWEONYONG, BI L S
HAHN S K, SHIN S B, MUN J H, KIM T Y, MOON J H, KIM T
JEONG U, MOON S, MUN S M
KIM J K, SUNG Y E, LEE K S, KIM M J, KIM S J, KIMJAEKUK, SUNG Y, JIN C, KIM M, LI G, KIM J
