国家/地区 韩国(8) 世界知识产权组织(3) 美国(2)
IPC部 D(7) C(6) H(4)
G(2)
IPC大类 D01(7) C01(4) H01(4)
C09(2) C23(2) G01(2)
IPC小类 D01D(7) D01F(7) C01B(4)
H01G(4) H01M(3) C09D(2)
C23C(2) G01K(2)
IPC D01D005/06(7) D01F009/12(7) D01D010/06(5)
D01F001/10(3) H01G011/36(3) H01G011/40(3)
H01G011/86(3) C01B031/04(2) C01B032/182(2)
C09D005/44(2) D01D005/00(2) D01F001/09(2)
G01K013/02(2) H01M004/04(2) H01M004/583(2)
发明人 CHO K(7) CHO Y J(6) KIM H(6)
PARK S Y(6) SHIN M K(5) CHO Y(4)
PARK S(4) CHO K R(3) KIM H J(3)
SU Y C(3) YEO C(3) YEO C S(3)
HUN C S(2) JIN K H(2) JU S H(2)
公开年 2016(2) 2017(2) 2018(2) 2019(2) 2020(2)
申请年 2017(4)  2014(2)  2018(2) 
专利权人 PURITECH CO LTD(10)