国家/地区 美国（2）
IPC部 B（2） G（2） H（2）
IPC大类 B82（2） H01（2）
IPC小类 B82Y（2） H01L（2）
IPC B82Y040/00（2） H01L021/02（2） H01L021/027（2）
发明人
公开年 2021（2）
申请年
专利权人 WISCONSIN ALUMNI RES FOUND（2）

Composition used in forming thin film, comprises chemical contrast pattern having first region of first chemistry on background of second chemistry, and microphase-separated block copolymer material overlying the chemical contrast pattern.

ARNOLD M, JACOBBERGER R, NEALEY P, XIONG S, CHANG T, MA Z, NEALEY P F

Patterning substrate comprising germanium used to make grating structures involves e.g. applying resist layer over passivating layer of graphene, forming pattern in resist layer, and transferring pattern into passivating layer of graphene.

LAGALLY M G, CAVALLO F, MANGU V S