国家/地区 |
中国(5)![]() |
IPC部 |
A(5)![]() |
IPC大类 |
B01(5)
B32(5)
C01(5)
A41(3) C23(2) |
IPC小类 |
B32B(5)![]() |
IPC |
B32B009/04(5)![]() |
发明人 |
CHOI K(2)
HEIGHT M(2)
PARK H(2)
PARK H G(2) |
公开年 | 2021(3) |
申请年 | 2021(2) |
专利权人 | HEIQ MATERIA.(2) |
CHOI K, PARK H G, HEIGHT M, CHOI K J, PARK H, PIAO H
PARK H G, HEIGHT M, CHOI K, PARK H
BRAMERWEGER E, BUCHHOLZ S, HOCKE H, MEYER H, MLECZKO L, RUDOLF R, SCHMID M, VOETZ M, WEBER R, WOLF A, BEURAMEOBEGEO E, BUHIHOLCHEU J, HOKE H, MEULREKCHEUKO R, POECHEU M, RUDOLPH R, SCHMIDT M, MAYER H, WERTS M, MERWEGER E, SHMID M, HOKKE H, BRAMER V E, FYOTC M, BUHHOLC Z, BRAMER W E, SCHMITT M