| 国家/地区 |
美国(7)
|
| IPC部 |
D(7)
|
| IPC大类 |
D01(7)
H01(6)
C09(3)
B33(2) C01(2) D06(2) |
| IPC小类 |
D01D(7)
D01F(6)
C09D(3)
H01B(3) H01G(3) B33Y(2) C01B(2) D06M(2) H01M(2) |
| IPC |
D01D005/06(7)
|
| 发明人 |
CHO K(2)
CHO Y(2)
KIM H(2)
PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2) |
| 公开年 | 2021(3) |
| 申请年 | 2017(2) 2019(2) |
| 专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) UNIV HANYANG.(2) |
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S
