国家/地区 美国（4） 世界知识产权组织（4）
IPC部 B（4）
IPC大类 B05（4） C01（4） B82（3）
B01（2） B32（2） H01（2）
IPC小类 B05D（4）
IPC C01B031/04（4） B82Y030/00（3） B01D065/10（2）
B01D069/12（2） B01D071/02（2） B05D005/00（2）
B82Y040/00（2）
发明人 ANDERSON K（2） DUERKSEN G L（2） MILLER S A（2）
SJONG A（2）
公开年 2014（2） 2015（2）
申请年 2013（4）
专利权人 EMPIRE TECHNOLOGY DEV LLC（4）

Etching method of graphene, involves etching exposed portions of graphene to form etched graphene structure, after applying resist to surface of graphene opposite to patterned substrate.

ANDERSON K, SJONG A

Graphene composite for use in device i.e. sensor for sensing analytes e.g. aromatic molecule in sample, comprises photoswitchable layer, graphene layer disposed on photoswitchable layer and substrate.

ANDERSON K, SJONG A, SOONG A, ANDERSON K K

Repairing graphene, comprises applying first and second reactive material to first and second sides of the graphene layer, and reacting the reactive materials in the hole to produce a plug in the hole and to repair the graphene layer.

MILLER S A, DUERKSEN G L

Repairing graphene membrane on support e.g. copper involves chamber to receive graphene layer that includes hole; applying initiator/activator through hole to produce/activate initiator layer; and growing a polymer to produce polymer plug.

MILLER S A, DUERKSEN G L