国家/地区 | 中国(13) |
IPC部 | C(13) H(2) |
IPC大类 | C01(13) H01(2) |
IPC小类 |
C01B(13)![]() |
IPC |
C01B032/184(13)![]() |
发明人 |
ZHANG H(13)![]() |
公开年 | 2017(7) 2018(6) |
申请年 |
2017(13)![]() |
专利权人 | ANHUI BETTER.(6) |
ZHANG G, ZHANG H, LI Y, LI J, LIU W
ZHANG G, ZHANG H, LI Y, LI J, LIU W
ZHANG G, ZHANG H, LI Y, LI J, LIU W
ZHANG G, ZHANG H, LI Y, LI J, LIU W
ZHANG G, ZHANG H, LI Y, LI J, LIU W
ZHANG G, ZHANG H, LI Y, LI J, LIU W
Device used e.g. for etching continuous substrate and graphene comprises feeding and etching device.
ZHANG H, LI T, TAN H
HAN W, LONG Y, GUO Y, GAO Z, YAN J, ZHANG H, ZHANG J, YAN S