国家/地区 美国（6） 世界知识产权组织（6） 欧洲专利局（EPO）（5） 日本（5） 韩国（5） 中国（4） 台湾（3） 印度（2）
IPC部 C（6） H（3） B（2）
IPC大类 C07（6）
IPC小类 C07C（6）
IPC C07C015/20（6）
发明人 FENG X（3） MILLEN K（3） MUELLEN K（3）
MULLEN K（3） CAI J（2） FASEL R（2）
RUFFIEUX P（2） SCHWAB M G（2） TSAI J（2）
公开年 2014（2）
申请年 2012（2）  2013（2） 
专利权人 BASF CHINA C.（3） BASF SE（3） MAX PLANCK G.（3）

New substituted aryl compounds useful for producing nanostructures, preferably nanoribbons i.e. graphene or graphene nanoribbons.

CHALIFOUX W A, SPROUL K C, YANG W, CHALIFOUX W, SPROUL K

Graphene nanoribbon comprises repeating unit comprising edge carbons which can unambiguously be assigned as zigzag or cove type carbon atoms.

SCHWAB M G, MUELLEN K, FENG X, YANG B, DUMSLAFF T, FASEL R, RUFFIEUX P, LIU J, CAI J, SANCHEZSANCHEZ C, MULLEN K, SANCHEZ S C, TSAI J, MILLEN K

Organic-semiconductor film used for channel in transistor structure, has pseudo graphene structure including two-dimensional network structure which is formed continuously.

KAGAYA M, MATSUMOTO T, KATO D, KATO T

New oligophenylene monomer useful in polymeric precursor for preparing graphene nanoribbons that used are in thin film semiconductor of electronic, optical, or optoelectronic device e.g. organic field effect transistor device.

MUELLEN K, FENG X, CAI J, RUFFIEUX P, FASEL R, NARITA A, TSAI J, MULLEN K, MILLEN K

New oligophenylene monomers, useful for synthesizing polymeric precursors for preparing graphene nanoribbons.

IVANOVICI S, SCHWAB M G S, FENG X, MUELLEN K, SCHWAB M G, MULLEN K, KLAUS M, SCHVAB M G, SCHWAB M, MILLEN K

Making graphene nanoribbon comprises contacting poly(phenylene ethynylene) polymer, annulating compound, and catalyst system comprising metal catalyst and protic acid, and oxidizing the arylannulated polymer product.

DICHTEL W R, ARSLAN H, URIBEROMO F J