国家/地区 中国（6）
IPC部 C（6） B（4） H（3）
IPC大类 C08（6） C01（4） B82（3）
C07（3） H01（3）
IPC小类 C08G（6）
IPC C01B031/04（4） C08G061/10（4） B82Y030/00（3）
B82Y040/00（3） C01B031/02（3） C07C015/14（3）
C07B037/12（2） C07C002/50（2） C07C017/30（2）
C07C025/18（2） C08G061/02（2） C08K003/04（2）
C08L065/00（2）
发明人 FENG X（4） MUELLEN K（4） MULLEN K（4）
SCHVAB M G（3） SCHWAB M G（3） SCHWAB M G S（3）
MILLEN K（2）
公开年 2013（6）
申请年 2012（6） 
专利权人 BASF AG（4） BASF SE（4） BASF CHINA C.（3） MAX PLANCK G.（3）

New oligophenylene monomer useful for preparing a polymeric precursor for producing graphene nanoribbons useful in an electronic, optical, or optoelectronic device.

SCHWAB M G, NARITA A, FENG X, MUELLEN K, MULLEN K, SCHWAB M G S, SCHVAB M G, MILLEN K

Segmented graphene nanoribbon useful for generating heterojunctions and heterostructures, comprises at least two different graphene segments covalently linked to each other.

BLANKENBURG S, CAI J, FASEL R, FENG X, MUELLEN K, PASSERONE D, PIGNEDOLI C, RUFFIEUX P, MULLEN K, PIGNEDOLI C A, TSAI J, CAI Y

New oligophenylene monomers, useful for synthesizing polymeric precursors for preparing graphene nanoribbons.

IVANOVICI S, SCHWAB M G S, FENG X, MUELLEN K, SCHWAB M G, MULLEN K, KLAUS M, SCHVAB M G, SCHWAB M, MILLEN K

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G

Insulating layer composition for use in substrate of insulating prepreg or insulating film and printed circuit board, comprises soluble type liquid crystal thermosetting oligomer, metal alkoxide compound, and graphene oxide.

JI S Y, HAM S J, KIM S H, KIM D Y, YEONG J S, JIN H S, HWAN K S, YEONG K D, CHI S, KIM S, KIM D, HAM S, CHI S Y, HAMSUKJIN

Manufacture of resin compound material involves uniformly dispersing carbon material having graphene structure in synthetic resin chosen from crystalline resin and non-crystalline resin under specified conditions.

SAWA K, TSUMURA K, INUI N, TAKAHASHI K, TANIGUCHI K