国家/地区 | 韩国(3) 美国(3) 中国(2) 世界知识产权组织(2) |
IPC部 |
D(6)![]() |
IPC大类 |
D01(6)![]() |
IPC小类 |
D01D(6)![]() |
IPC |
D01D005/06(4)
D01F009/12(4)
D01D010/02(3)
D01D010/06(3) D01D001/06(2) D01D005/00(2) D01F001/09(2) D01F001/10(2) D01F011/12(2) H01G011/40(2) |
发明人 | |
公开年 | 2018(4) 2017(2) |
申请年 |
2017(6)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H