国家/地区 韩国(3) 世界知识产权组织(3) 中国(2) 美国(2)
IPC部 D(5) C(2) H(2)
IPC大类 D01(5) C01(2) D02(2)
IPC小类 D01D(5)
IPC D01D010/06(5)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2)
公开年 2017(5)
申请年 2017(5)
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)