国家/地区 | 中国(8) 韩国(4) |
IPC部 |
D(11)![]() |
IPC大类 |
D01(11)![]() |
IPC小类 |
D01D(11)![]() |
IPC |
D01D005/06(11)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y J(2)
HUN C S(2)
JIN K H(2) JU S H(2) KIM H(2) KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2) PARK S Y(2) SU Y C(2) YOO J(2) |
公开年 | 2021(4) 2020(2) 2022(2) |
申请年 | 2020(3) 2022(3) 2019(2) |
专利权人 | ADVANCED CON.(2) PURITECH CO .(2) |
GE H, YANG Z, YAO H, YUAN H, QIAN K, WANG H
TAO G, LI P, OUYANG J, XIA Z
SUKJIWON, LEE H J, VO T
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
ZHOU G, GONG W, LV W, QU S, JIANG J
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H