国家/地区 欧洲专利局（EPO）（3）
IPC部 C（3）
IPC大类 C01（3）
IPC小类 C01B（3）
IPC B82Y030/00（2） B82Y040/00（2） C01B032/184（2）
C01B032/188（2） C30B029/02（2） C30B033/02（2）
H01L029/16（2）
发明人
公开年 2018（2）
申请年 2017（3）
专利权人

Manufacturing multilayer graphene e.g. suspended or deposited multilayer graphene used for device e.g. sensor involves depositing graphene monolayer having protective layer on top on sample containing another graphene monolayer.

ZURUTUZA ELORZA A, CENTENO PEREZ A, PESQUERA RODRIGUES A, ZURUTUZA E A, CENTENO P A, PESQUERA R A

Preparation of graphene on surface of silicon carbide, involves subjecting silicon carbide crystal with crystallographic orientation of surface to specified pressure, annealing under preset pressure, and annealing in stream of silicon atoms.

CIOCHON P, KOLODZIEJ J, CICHON P

Manufacture of graphene precursor-containing silicon carbide substrate involves forming graphene precursor by heating silicon carbide substrate, and forming structure including molecular layers having carbon dangling bonds.

KANEKO T, KUTSUMA Y, DOJIMA D