国家/地区 韩国（4） 美国（4） 中国（3） 欧洲专利局（EPO）（2）
IPC部 H（4） C（2）
IPC大类 H01（4） C01（2）
IPC小类 H01L（4） C01B（2）
IPC H01L029/16（3） C01B031/04（2） H01L021/336（2）
H01L029/06（2） H01L029/66（2） H01L029/78（2）
发明人 PARK S（4）
公开年 2014（2） 2015（2）
申请年 2013（2） 
专利权人 LEE J（4）

Wiring structure for electronic device comprises conductive material layer and nanocrystalline graphene layer.

LEE C, SHIN H, PARK S, IM D, PARK H, SHIN K, LEE J, LIM H, LEE C S, SHIN H J, PARK S J, IM D H, SHIN K W, LEE J M, LIM H J, PIAO X

Graphene device e.g. FET, has gate electrode for applying electric field to graphene channel layer, and junction contact layers for contacting portions of channel layer, where contact layers are electrically separated from each other.

LEE J, BYUN K, SONG H, SHIN H, LEE M, YOO I, PARK S, LEE J H, BYUN K E, SONG H J, SHIN H J, LEE M H, YOO I K, PARK S J, SONG C, LI M

Manufacture of graphene for fabricating electronic device and display device, involves forming silicon carbide thin film on substrate, forming metal thin film on silicon carbide thin film, and heating to obtain metal composite layer.

LEE D W, SHIN H, PARK S, BYUN K, SEO D, SONG H, WOO Y, LEE J, CHUNG H, HEO J, SHIN H J, PARK S J, BYUN K E, SONG H J, WOO Y S, LEE J H, CHUNG H J, HEO J S

Tunneling field-effect transistor (TFET) for controlling current tunneling through semiconductor between graphene channel and electrode, has gate insulating layer that is formed on graphene channel of semiconductor layer.

HEO J, PARK S, BYUN K, SEO D, SONG H, LEE J, CHUNG H, HEO J S, PARK S J, BYUN K E, SONG H J, LEE J H, CHUNG H J, XU D, HUH J, JUNG H