国家/地区 | 中国(5) 韩国(2) |
IPC部 | D(8) H(3) |
IPC大类 |
D01(8)
D06(3)
H01(3)
|
IPC小类 |
D01D(8)![]() |
IPC |
D01D005/06(8)![]() |
发明人 | |
公开年 |
2018(8)![]() |
申请年 |
2017(8)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
LI Y, GAO J, HAN R
BAI Y, HU X, SHA Y, SHA X
LIANG Y, TANG Y, WENG W, XIANG H, YANG L, ZHU M