国家/地区 | 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 中国(2) 美国(2) |
IPC部 |
D(6)![]() |
IPC大类 |
D01(6)
C01(2)
D02(2)
D06(2) H01(2) |
IPC小类 |
D01D(6)![]() |
IPC |
D01D010/06(6)![]() |
发明人 |
CHO K R(3)
CHO Y J(3)
KIM H J(3)
PARK S Y(3) SHIN M K(3) YEO C S(3) |
公开年 | 2017(5) |
申请年 |
2017(6)![]() |
专利权人 | AICT(3) PURITECH CO .(3) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H