国家/地区 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 中国(2) 美国(2)
IPC部 D(6)
IPC大类 D01(6) C01(2) D02(2)
D06(2) H01(2)
IPC小类 D01D(6)
IPC D01D010/06(6)
发明人 CHO K R(3) CHO Y J(3) KIM H J(3)
PARK S Y(3) SHIN M K(3) YEO C S(3)
公开年 2017(5)
申请年 2017(6)
专利权人 AICT(3) PURITECH CO .(3)