国家/地区 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 中国(3) 美国(3)
IPC部 D(8)
IPC大类 D01(8) H01(3) C01(2)
D02(2) D06(2)
IPC小类 D01D(8)
IPC D01F009/12(8)
发明人 CHO K R(3) CHO Y J(3) KIM H J(3)
PARK S Y(3) SHIN M K(3) YEO C S(3)
公开年 2017(6) 2018(2)
申请年 2017(8)
专利权人 AICT(4) PURITECH CO .(4)