国家/地区 | 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 中国(3) 美国(3) |
IPC部 |
D(8)![]() |
IPC大类 |
D01(8)
H01(3)
C01(2)
D02(2) D06(2) |
IPC小类 |
D01D(8)![]() |
IPC |
D01F009/12(8)![]() |
发明人 |
CHO K R(3)
CHO Y J(3)
KIM H J(3)
PARK S Y(3) SHIN M K(3) YEO C S(3) |
公开年 | 2017(6) 2018(2) |
申请年 |
2017(8)![]() |
专利权人 | AICT(4) PURITECH CO .(4) |
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H