国家/地区 | 中国(4) 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 美国(3) |
IPC部 |
D(9)![]() |
IPC大类 |
D01(9)
C01(4)
D02(2)
|
IPC小类 |
D01D(9)![]() |
IPC |
D01F009/12(9)![]() |
发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK H(2) PARK S Y(2) SHIN M K(2) TAE H H(2) YEO C S(2) |
公开年 |
2017(9)![]() |
申请年 | 2017(6) 2016(3) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) UNIV HANYANG.(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H
YAO L, ZHENG X, YU S, MEI X, XU C, QIU Y