国家/地区 中国(4) 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 美国(3)
IPC部 D(9)
IPC大类 D01(9) C01(4) D02(2)
IPC小类 D01D(9)
IPC D01F009/12(9)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK H(2) PARK S Y(2) SHIN M K(2)
TAE H H(2) YEO C S(2)
公开年 2017(9)
申请年 2017(6)  2016(3) 
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2) UNIV HANYANG.(2)