国家/地区 | 中国(6) 世界知识产权组织(4) 欧洲专利局(EPO)(3) 日本(3) 韩国(3) 美国(3) 澳大利亚(2) 加拿大(2) |
IPC部 |
B(7)![]() |
IPC大类 |
B01(7)![]() |
IPC小类 |
B01D(7)![]() |
IPC |
C23C016/26(7)![]() |
发明人 |
CHOI K(2)
HEIGHT M(2)
PARK H(2)
PARK H G(2) |
公开年 | 2017(2) 2021(2) |
申请年 | 2020(2) |
专利权人 | HEIQ MATERIA.(2) |
AGRAWAL K V, HUANG S, HSU K, AGRAWAL K, HWANG S, HUSH K, XU G
CHOI K, PARK H G, HEIGHT M, CHOI K J, PARK H, PIAO H
SEO D H, PINEDA S, MURDOCK A, HAN Z J, OSTRIKOV K, XIE M, VAN DER LAAN T
PARK H G, HEIGHT M, CHOI K, PARK H