国家/地区 日本(5)
IPC部 A(5)
IPC大类 B01(5)
IPC小类 B01D(5)
IPC B32B009/00(3) B32B009/04(3) A41D013/11(2)
A41D031/102(2) A62B018/02(2) B01D067/00(2)
B01D071/02(2) B32B005/26(2) C01B032/182(2)
C01B032/186(2) C23C016/26(2)
发明人 CHOI K(2) HEIGHT M(2) PARK H(2)
PARK H G(2)
公开年 2021(3)
申请年 2020(2)  2021(2) 
专利权人 HEIQ MATERIA.(2)

BENSE CANDELA T, BANCHERO ISASMENDI M M, UMPIERREZ VAZQUEZ E F, RUFENER C, VILLANUEVA J P, PARDO H, FACCIO R, MOMBRU A, BENSE C T, BANCHERO I M M, UMPIERREZ V E F, BENSE C T S, CANDELA T B, ISASMENDI M M B, VAZQUEZ E F U, UMPIERREZ VIZQUEZ E F, UFENER C, UMPIERREZ VAZQUEZ E, DRA. PARDO H, DR. FACCIO R, DR. MOMBRU A