国家/地区 美国（4） 中国（3） 日本（3） 韩国（3） 台湾（2） 世界知识产权组织（2）
IPC部 C（4） B（2） H（2）
IPC大类 C01（4） C23（4） H01（2）
IPC小类 C01B（4）
IPC C23C016/04（4）
发明人
公开年 2021（4）
申请年 2021（4）
专利权人

Structure e.g. porous metal-coated structure used for e.g. catalytic application, comprises substrate comprising activated adsorbent material, and metal material deposited on substrate.

PEPIN P, ETHRIDGE K, THOMSON C, HOLBROOK B, ESRIDGE K

Reactor assembly comprises gas inlet, gas outlets, reactor chamber, porous frits having porosity and comprising nanoporous carbon material, reactor head space, reactor assembly lamps, and computer processing unit.

NAGEL C J, BRODEUR C L

Forming layer, comprises e.g. exposing substrate to aromatic precursor in processing chamber, rinsing aromatic precursor from processing chamber, and heating substrate deposit graphene hard mask layer on substrate.

BHUYAN B J, LEONCINI A

Encapsulating graphene in semiconductor substrate, comprises selectively depositing graphene on metal layer, depositing metal oxide over graphene by thermal-based deposition technique, and depositing hermetic barrier over metal oxide.

VARADARAJAN B N, NARKEVICIUTE I, SHARMA K