国家/地区 台湾（6）
IPC部 B（6） C（6） H（3）
IPC大类 B82（6）
IPC小类 B82Y（6）
IPC B82Y040/00（6） B82Y030/00（4） C01B031/04（4）
C08G061/10（4） C01B031/02（3） C01B032/182（2）
C01B032/184（2） C07C015/14（2）
发明人 FENG X（4） MUELLEN K（4） MULLEN K（4）
SCHWAB M G（3） CAI J（2） FASEL R（2）
MILLEN K（2） RUFFIEUX P（2） SCHVAB M G（2）
SCHWAB M G S（2） TSAI J（2）
公开年 2013（3）
申请年 2012（3） 
专利权人 BASF SE（4） BASF AG（3） BASF CHINA C.（3） MAX PLANCK G.（3）

Matter composition comprises epoxy functionalized two-dimensional shaped particles comprising functionalized graphene, clays, and alumina platelets, carbon nanotubes, epoxy resin, and curing agent comprising ionic liquid, and 1-ethyl-3-methylimidazolium dicyanamide.

KALB J, IFTIME G, WEI J, PANDEY R, RAHULPANDY, JUNHUA W, JAMIKALB

Composition used in forming thin film, comprises chemical contrast pattern having first region of first chemistry on background of second chemistry, and microphase-separated block copolymer material overlying the chemical contrast pattern.

ARNOLD M, JACOBBERGER R, NEALEY P, XIONG S, CHANG T, MA Z, NEALEY P F

Graphene nanoribbon comprises repeating unit comprising edge carbons which can unambiguously be assigned as zigzag or cove type carbon atoms.

SCHWAB M G, MUELLEN K, FENG X, YANG B, DUMSLAFF T, FASEL R, RUFFIEUX P, LIU J, CAI J, SANCHEZSANCHEZ C, MULLEN K, SANCHEZ S C, TSAI J, MILLEN K

New oligophenylene monomer useful for preparing a polymeric precursor for producing graphene nanoribbons useful in an electronic, optical, or optoelectronic device.

SCHWAB M G, NARITA A, FENG X, MUELLEN K, MULLEN K, SCHWAB M G S, SCHVAB M G, MILLEN K

Segmented graphene nanoribbon useful for generating heterojunctions and heterostructures, comprises at least two different graphene segments covalently linked to each other.

BLANKENBURG S, CAI J, FASEL R, FENG X, MUELLEN K, PASSERONE D, PIGNEDOLI C, RUFFIEUX P, MULLEN K, PIGNEDOLI C A, TSAI J, CAI Y

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G