国家/地区 美国(58)
IPC部 B(58)
IPC大类 B82(48) C01(36) H01(30)
B32(23) C23(12) C08(11)
B05(10) C07(9) B01(8)
C09(6) C25(6) G02(4)
B41(3) C30(3) G01(3)
IPC小类 B82Y(47) C01B(36) B32B(23)
H01L(22) H01B(16) B82B(13)
B05D(10) C08K(10) C23C(9)
B01J(8) C08L(7) H01M(7)
C07C(6) C08G(5) C09D(5)
IPC B82Y030/00(35) B82Y040/00(28) C01B031/02(27)
C01B031/04(24) H01B001/04(12) H01L029/786(11)
B82Y099/00(10) B05D005/12(8) B82B003/00(8)
C01B031/00(8) C08K003/04(8) B32B009/00(7)
H01L029/66(7) B82B001/00(6) C23C016/26(6)
发明人 HONG B H(7) AHN J(5) BAE S K(5)
CHOI J(5) KIM H K(5) CHO S(3)
GANG B S(3) GEUN K H(3) HUI H B(3)
LEE Y(3) SHIN H(3) ADACHI K(2)
AHN J H(2) BAE S(2) CHO S H(2)
公开年 2011(58)
申请年 2011(58)
专利权人 UNIV SUNGKYU.(8) SAMSUNG ELEC.(5) SAMSUNG TECH.(5) GRAPHENE SQU.(4)
UNIV SUNGKYU.(4) UNIV SUNGKYU.(4) HANWHA TECHW.(3) KOREA INST S.(3)
BASF SE(2) MAX PLANCK G.(2) MAXPLANCKGES.(2) SONY CORP(2)
TOSHIBA KK(2) UNIV CALIFOR.(2) UNIV CENT FL.(2) UNIV MANCHES.(2)
UNIV NEW YOR.(2) UNIV SINGAPO.(2) UNIV SINGAPO.(2) UNIV TEXAS S.(2)

CHA S W, HONG B H, HONG S Y, JUNG M H, KIM K E, KIM K H, MAENG K S, PARK C W, PARK S B