国家/地区 中国（54） 台湾（19） 美国（19） 日本（5） 世界知识产权组织（4） 韩国（3） 德国（2）
IPC部 C（76）
IPC大类 C01（28） C08（21） C09（19）
H01（17） B01（13） C25（7）
C02（6） C23（6） B29（5）
B82（5） A61（4） H05（3）
B05（2） B32（2） B60（2）
IPC小类 C01B（28） C08K（20） C08L（20）
C09D（8） B01J（7） C08J（7）
C02F（6） C09K（6） C23C（6）
C25B（6） H01B（6） H01M（6）
B01D（5） B82Y（5） H01L（5）
IPC C08K003/04（19） C01B031/04（13） C08K003/22（7）
C01B032/184（6） C08K009/02（5） B82Y030/00（4）
B82Y040/00（4） C01B032/182（4） C08K009/00（4）
C08K009/04（4） H01M004/62（4） C01B032/198（3）
C08K009/10（3） C08K013/06（3） C08L083/04（3）
发明人 LIN C（76）
公开年 2017（13） 2018（11） 2021（11） 2020（9） 2022（7） 2014（6） 2023（6） 2016（5） 2013（4） 2019（3）
申请年 2020（11）  2018（9）  2019（9）  2016（8）  2022（8）  2012（7）  2017（7）  2021（6）  2015（5）  2013（3） 
专利权人 CHUNG SHAN I.（6） LIN C（5） UNIV XIAN SH.（4） ACAD SINICA（3）
NO 725 RES I.（3） TAIWAN SEMIC.（3） UNIV GUANGDO.（3） UNIV ISHOU（3）
FUJIAN MATER.（2） FUZHOU AONID.（2） IND TECHNOLO.（2） LIANG C（2）
TAIWAN CARBO.（2） TAIWAN NANO .（2） UNIV NAT CHE.（2） UNIV SOUTH C.（2）
UNIV XIAMEN .（2） ZHUHAI JINGG.（2）

Preparing functionalized graphene adhesive for lead-carbon battery negative pole, by dispersing graphene oxide in aqueous ethanol solution, performing ultrasonic dispersion, adding hydrochloric acid, oxidizing agent, and using methyl methacrylate and 9-anthracene-methyl methacrylate.

LU J, LIN C, GU K, HONG G, ZHAN J

Preparing gallium nitride nanowire/graphene composite material useful in sterilizing device, comprises providing substrate, forming layer of gold film on positive and negative surfaces of substrate, growing gallium nitride nanowire on substrate covered with gold film, and depositing graphene film.

LI J, FU Y, DAI Y, LIN C, WANG Z, LIN L, YANG Y, HU Y, XU Z, FU Z

Preparing a freely bendable wear-resistant and weather-resistant halogen-free low-smoke cable material used in robot, by using thionyl chloride to modify graphene oxide, mixing dimethylacetamide, acyl chloride graphene, lysine, and pyridine, reacting, filtering, melting, blending, and extruding.

LIN C, ZHANG J, LI Y, LIN Y, ZHAO X, ZENG Q

Strong corrosion-resistant ultra-low temperature adhesive used in low temperature equipment, comprises hyperbranched aspartic polyurea resin, organic solvent, catalyst, nano toughened rust inhibitor, silane coupling agent, nano-antibacterial agent, defoamer and isocyanate curing agent.

LIN C, LIN L, WANG M

Body-building baseball bat comprises handle part with top end provided with anti-dropping ball, and bottom end fixed with balance weight block, and polyurethane material part formed on surface of handle part which is processed into surface of bat, with rolling pattern through knurling process.

LIN C

High and low temperature resistant graphene zinc powder coating material comprises epoxy polysiloxane resin, bisphenol A type epoxy resin, zinc powder, graphene slurry, filler, auxiliary agent, composite amino compound, phenolic aldehyde amine resin and solvent.

LIU X, LIN C, WANG S, ZHAO X

Preparation of modified graphene oxide for preparing modified graphene oxide-reinforced methacrylic acid gelatin hydrogel, involves mixing graphene oxide and gelatin to obtain gelatin modified graphene oxide, and mixing with methacrylic anhydride.

CHENG D, RUAN C, PAN X, LIN C

Semiconductor device, comprises substrate and fin structure on substrate, and includes epitaxial region, etch stop layer on epitaxial region, interlayer dielectric layer on etch stop layer, and metal contact through etch stop layer and interlayer dielectric layer.

SHEN T, HUANG J, CHEN S, LIN H, LIN C, WOON W, KHADERBAD M A

Photomask used in semiconductor industry, comprises substrate, and polymer layer over surface of substrate, where polymer layer comprises thermoplastic polymer and hydrophobic layer, and thermoplastic polymer is set between hydrophobic layer and surface of photomask.

LIN C, WEN C, LIU T H

Graphene-aluminum alloy material useful in aluminum-based composite material e.g. particle reinforcing body and fiber reinforcing body, comprises silicon, iron, copper, magnesium, boron, molybdenum, graphene powder, rare earth, aluminum and impurities.

LIN C, NAN Q