国家/地区 | 中国(11) 韩国(5) 世界知识产权组织(4) 美国(2) |
IPC部 |
D(16)![]() |
IPC大类 |
D01(16)
D06(5)
H01(4)
D02(3) C01(2) |
IPC小类 |
D01D(16)![]() |
IPC |
D01D005/06(16)![]() |
发明人 |
CHO K R(3)
CHO Y J(3)
KIM H J(3)
PARK S Y(3) SHIN M K(3) YEO C S(3) PAN X(2) |
公开年 | 2017(8) 2018(8) |
申请年 |
2017(16)![]() |
专利权人 |
AICT(4)
PURITECH CO .(4)
GUANGDONG FO.(2)
UNIV DONGHUA(2)
|
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
LI Y, GAO J, HAN R
BAI Y, HU X, SHA Y, SHA X
LIANG Y, TANG Y, WENG W, XIANG H, YANG L, ZHU M
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R