国家/地区 美国(7)
IPC部 A(7)
IPC大类 B01(7)
IPC小类 B01D(7)
IPC B32B009/00(4) B01D039/16(3) B01D046/00(3)
B01D067/00(3) B01D071/02(3) B32B005/02(3)
B32B009/04(3) A41D013/11(2) A41D031/102(2)
A62B023/02(2) B01D069/00(2) B32B005/26(2)
C01B032/182(2) C01B032/186(2) C01B032/194(2)
发明人 CHOI K(2) HEIGHT M(2) PARK H(2)
PARK H G(2)
公开年 2021(4) 2017(2)
申请年 2021(3)  2016(2)  2020(2) 
专利权人 HEIQ MATERIA.(2)

BENSE CANDELA T, BANCHERO ISASMENDI M M, UMPIERREZ VAZQUEZ E F, RUFENER C, VILLANUEVA J P, PARDO H, FACCIO R, MOMBRU A, BENSE C T, BANCHERO I M M, UMPIERREZ V E F, BENSE C T S, CANDELA T B, ISASMENDI M M B, VAZQUEZ E F U, UMPIERREZ VIZQUEZ E F, UFENER C, UMPIERREZ VAZQUEZ E, DRA. PARDO H, DR. FACCIO R, DR. MOMBRU A