国家/地区 中国(10) 美国(8) 韩国(6) 世界知识产权组织(4) 印度(2)
IPC部 B(20)
IPC大类 B01(20) C01(20) B82(7)
C02(4) C23(3) C07(2)
G01(2)
IPC小类 B01J(20)
IPC B01J023/50(20)
发明人 CHA S W(2) HONG B H(2) HONG S Y(2)
JUNG M H(2) KIM K E(2) KIM K H(2)
LI J(2) LIU C(2) MAENG K S(2)
PARK C W(2) PARK S B(2) ZHANG Y(2)
公开年 2022(4) 2011(2) 2013(2) 2014(2) 2017(2) 2019(2) 2020(2) 2021(2)
申请年 2011(3)  2017(3)  2013(2)  2018(2)  2019(2)  2020(2)  2021(2)  2022(2) 
专利权人 POSTECH ACAD.(2) SRC CORP(2) UNIV SUNGKYU.(2) UNIV SUNGKYU.(2)