国家/地区 | 中国(18) |
IPC部 |
C(18)
B(5)
H(3)
|
IPC大类 |
C01(18)
B01(4)
C09(4)
H01(3) |
IPC小类 |
C01B(18)![]() |
IPC |
C01B032/184(18)![]() |
发明人 |
ZHANG H(18)![]() |
公开年 |
2017(18)![]() |
申请年 | 2016(10) 2017(7) |
专利权人 | UNIV SHENZHE.(4) ZHANG H(2) |
Device used e.g. for etching continuous substrate and graphene comprises feeding and etching device.
ZHANG H, LI T, TAN H
HAN W, LONG Y, GUO Y, GAO Z, YAN J, ZHANG H, ZHANG J, YAN S
GAO Y, ZONG Y, BO W, ZHANG H
YUE H, ZHANG H, GAO X, WANG B, SONG S
HU Y, SONG S, LIAN K, JIN H, ZONG P, ZHANG H, WU S
ZHANG Y, YU G, GE X, ZHANG H, CHEN Z, SUI Y, DENG R
LI Y, HUANG Y, OU Z, ZHU Z, ZHANG H