国家/地区 中国(59) 美国(53) 韩国(36) 世界知识产权组织(34) 日本(33) 欧洲专利局(EPO)(21) 加拿大(7) 德国(6) 台湾(6) 法国(4) 印度(3) 俄罗斯(3) 新加坡(3) 巴西(2) 墨西哥(2)
IPC部 C(124) B(63) H(50)
G(9) D(4)
IPC大类 C01(124) H01(48) B82(41)
B32(23) B05(16) C23(12)
B01(11) C08(9) C07(7)
B44(5) C09(5) C04(4)
D01(4) G01(4) B29(3)
IPC小类 C01B(124)
IPC C01B031/04(98) C01B031/02(47) C01B031/00(28)
B82Y040/00(25) B82Y030/00(24) H01B001/04(14)
B82B003/00(13) B32B009/00(12) H01B001/24(9)
B05D003/02(8) H01L029/16(7) H01L029/786(7)
C08K003/04(6) H01L029/06(6) B05D005/12(5)
发明人 LEE J(5) JANG B Z(4) KIM J(4)
LIU J(4) LIU Y(4) WANG Y(4)
ZHAMU A(4) AWANO H(3) CHOI J(3)
KOSYNKIN D V(3) LEE S(3) LI X(3)
MA Y(3) OOTA N(3) TOUR J M(3)
公开年 2010(124)
申请年 2009(64)  2010(48)  2008(12) 
专利权人 JANG B Z(4) NANOTEK INST.(4) SAMSUNG ELEC.(4) UNIV SHANGHA.(4)
UNIV TIANJIN(4) ZHAMU A(4) CENT NAT REC.(3) CHINESE ACAD.(3)
DOKURITSU GY.(3) HITACHI MAXE.(3) KOREA INST S.(3) POSTECH ACAD.(3)
UNIV RICE WI.(3) ABC SANG CO .(2) AKSAY I A(2) BATTELLE MEM.(2)
CHINESE ACAD.(2) COMMISSARIAT.(2) FUJITSU LTD(2) GILJE S S(2)

HEON HEO S, MI JU H, HO CHOI S, YEON CHO G, SEUNG H H, HYE M J, SEONG H C, KWANG Y C

HEON HEO S, MI JU H, HO CHOI S, YEON CHO G, HYEONG RYU D, SEUNG H H, HYE M J, SEONG H C, KWANG Y C, DOH H R

KAERKKAEINEN A M, HAQUE S M, COLLI A, PASANEN P M, JOHANNES K L M, UUSITALO M A, LEHTINIEMI R K, KARKKAAINEN A M, HAQUE S, KARKKAINEN L M J, KARKKAINEN L, UUSITALO M, LEHTINIEMI R, KARKKAINEN L M Y, KAERKKAEINEN L M J