国家/地区 中国（6）
IPC部 C（6） B（5）
IPC大类 C01（6） B21（5） B82（5）
C22（5） C23（5） B32（3）
B01（2） C25（2）
IPC小类 C01B（6） B21B（5） B82Y（5）
C22C（5） C22F（5） B32B（3）
C23F（3） B01J（2） C23C（2）
IPC C01B031/02（6） C01B031/04（6） B21B001/40（5）
B82Y030/00（5） C22C009/00（5） C22C009/02（5）
C22F001/08（5） B21B003/00（4） B82Y040/00（4）
C22F001/00（4） C01B032/186（3） B01J023/72（2）
B01J027/04（2） B01J037/00（2） B01J037/18（2）
发明人 CHIBA G（5） CHIBA Y（5） YOSHIHIRO C（4）
CHIBA YOSHIHIRO（2） TATSUYA Y（2） YAMAJI T（2）
公开年 2012（3） 2013（2）
申请年 2012（5） 
专利权人 NIPPON MINING CO（6）

Copper foil used in manufacture of graphene, has preset surface roughness, and contains copper plating layer and/or copper sputter layer.

KOHIKI MICHIYA, SAKAGUCHI KAZUHIKO, KOHIKI M, SAKAGUCHI K, MICHISHITA N

Copper foil used for manufacturing graphene, comprises copper with specific purity.

CHIBA Y, ONO T, CHIBA G

Copper foil for manufacturing graphene, has specified arithmetic mean roughness in rolling parallel direction and rolling perpendicular direction.

CHIBA YOSHIHIRO, CHIBA Y, CHIBA G, YOSHIHIRO C

Copper foil for manufacturing graphene, has specified sum total of oxides and sulfides having diameter of below preset value before heating under hydrogen and argon-containing atmosphere.

CHIBA Y, YAMAJI T, YOSHIHIRO C, TATSUYA Y, CHIBA G

Copper foil for manufacturing graphene, has specified total number of oxide and sulfide having specified diameter with respect to elemental-analysis measurement of surface using scanning electron microscope.

CHIBA Y, YAMAJI T, YOSHIHIRO C, TATSUYA Y, CHIBA G

Copper foil used for manufacturing graphene, has glossiness or more than preset value, and average grain size more than preset value after being heated in atmosphere containing hydrogen and argon at specific conditions.

CHIBA YOSHIHIRO, CHIBA Y, YOSHIHIRO C, CHIBA G