国家/地区 |
世界知识产权组织(10)![]() |
IPC部 |
D(10)![]() |
IPC大类 |
D01(10)
C01(6)
D06(4)
D02(3) B82(2) H01(2) |
IPC小类 |
D01D(10)![]() |
IPC |
D01D010/06(10)![]() |
发明人 |
SHIN M K(4)
CHO K R(3)
CHO Y J(3)
KIM H J(3) PARK S Y(3) YEO C S(3) HAN T H(2) |
公开年 | 2017(3) |
申请年 | 2017(4) |
专利权人 |
AICT(3)
PURITECH CO .(3)
UNIV HANYANG.(3)
UNIV HANYANG.(2)
|
JOMPHOAK A, JARUWONGRUNGSEE K, NUNTAWONG N, POGFAY T, WAIWIJIT U, MATUROS DANIELS T, JARIYAKUN K, PONGSAKSAWAD W, KHAMSUK P
HAN T H, SUNG T H, EOM W S, HANTAEHEE, EOM W
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
HAN T, PARK H, TAE H H, PIAO X, HAN T H
ZHOU X, XU Y, GAO C, XU Z
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S
KOENDERS B M, MEERMAN J J, KAMPERMAN S M, WAARBEEK TER R F, JONG DE J, RADIER A A T, OTTO M J, WAARBEEK T R F, JONG D J, MEERMAN YA Y, JONG D Y, OTTO M YA