国家/地区 |
中国(11)![]() |
IPC部 |
C(11)![]() |
IPC大类 |
C01(11)![]() |
IPC小类 |
C01B(11)![]() |
IPC |
C01B032/184(11)![]() |
发明人 |
LI X(3)
LIU W(2)
YAO C(2)
ZUO S(2) |
公开年 | 2016(3) 2017(2) 2018(2) 2020(2) |
申请年 | 2015(2) 2016(2) 2017(2) 2020(2) |
专利权人 |
ZHONG L, WANG X, XU L, ZHANG Q, ZHOU Y, LIU H, WANG Y
YAO C, ZUO S, YAN X, LI X, LIU W, WANG C, YE L, WU H
LI X, CAO L, GAO S, QIN L, KANG S
YAO C, WANG P, ZUO S, LIU W, LI X
YANASE Y, YANASE M, LIANG L
Device used e.g. for etching continuous substrate and graphene comprises feeding and etching device.
ZHANG H, LI T, TAN H
WENG W, ZHU M, YANG J, DU X